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蚀刻液系列

蚀刻液系列产品主要用于晶圆或面板制造中的湿法蚀刻制程，将光刻胶上的图案转移到光刻胶下面的各层材料，或者用于膜层的去除或减薄、干刻后膜层残留的去除等。

特性

  • 无残留

  • 高选择比

  • 兼容性强

  • 高品质

  • 品质稳定

  • 性能定制

用途
  • 1

    手机屏幕

  • 1

    液晶电视

  • 1

    车载显示屏幕

  • 1

    其他穿戴设备显示屏

  • 1

    芯片

产品系列

Cu蚀刻液
Ag蚀刻液
Al蚀刻液
ITO蚀刻液
BOE蚀刻液
HNA蚀刻液
金属蚀刻液
硅蚀刻液