高纯化学品系列
高纯氨水、双氧水、异丙醇、硫酸是湿法清洗与刻蚀工艺的核心。超高纯度(金属杂质ppt级)与稳定性,是保障芯片高成品率与可靠性的基石。主要应用于集成电路硅片的RCA清洗工艺中,以一定比例组合成SC1、SC2和SPM等,去除金杂、有机物或particle。
特性
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高纯度
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低金属杂质
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低有机杂质
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低颗粒
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原料可控
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品质稳定
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定制化服务
用途
芯片
物联网
智能家居
数字基建
产品系列
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